환형 실록산 화합물과 불소계 실란 단량체를 혼성화한 재료를 이용한 저유전막 및 이의 제조방법
한국과학기술연구원
10-2010-0120356
TRL 5
등록일 2026.06.11
현재 막의 강도 또는 유전율의 극복이 어려워 실제 공정에 적용되지 못하던 모든 전자소재분야에 적용가능
특허 도면
특허 등록번호: 10-1258561
특허 문서
기술 개요
본 발명은 실세스퀴옥산 중합체 매트릭스를 전구체로 하여 제조된 저유전막으로서, 상기 실세스퀴옥산 중합체 매트릭스는 다반응성 환형 실록산, 불소 실란 단량체 및 알콕시실란을 중합하여 제조된 실세스퀴옥산 졸(sol) 인 것을 특징으로 하는 저유전막 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 저유전막은 ~500℃의 경화온도에서도 열에 의해 분해되지 않고 안정된 도막 상태를 유지하며, 도막 표면의 굴곡 정도가 작아 매우 균일한 표면 특성을 나타낼 뿐 아니라, 500nm 이상의 두께에서도 균열 현 상없이 매끄럽게 코팅될 수 있어 코팅성이 매우 우수하다. 또한, 본 발명에 따른 저유전막은 낮은 흡습률을 가지면서도, 높은 표면 모듈러스 및 경도를 가져 우수한 기계적 물성을 나타낼 뿐 아니라, 우수한 저유전 특성 을 발휘할 수 있다.
주요 특징
화학/화공, 전기전자재료용고분자
협력 희망 분야
한국과학기술연구원
기술 정보
상태
라이선스 가능
TRL (기술성숙도)
Level 5
판매금액
가격협의
키워드
저유전 박막 소재
실록산 실란 혼성화
불소계 유전 저감
발명자
백경열, 최승석, 황승상, 홍순만, 구종민, 곽순종, 오성연, 이희승, 이성수, 박상희
출원일
2010.11.30