복층 구조의 페로브스카이트 및 그 제조방법
한국과학기술연구원
10-2019-0115580
TRL 5
등록일 2026.06.11
태양전지, LED, Photodetector 등 다양한 광전소자에 적용
특허 도면
특허 등록번호: 10-2227526
특허 문서
기술 개요
본 개시는, 기판을 제공하는 단계, 기판 상에 제1 페로브스카이트 층을 형성하는 단계, 기판을 기체 상태의 금속 할라이드, 금속 산화물, 금속 황화물 중 어느 하나 또는 이들의 조합에 노출함으로써, 제1 페로브스카이트 층 상 에 금속 층을 형성하는 단계, 및 금속 층 상에 할로겐 화합물을 공급하여, 금속 층에 포함된 금속 할라이드, 금 속 산화물, 금속 황화물 중 어느 하나 또는 이들의 조합과 공급된 할로겐 화합물 간의 반응에 의해, 제2 페로브 스카이트 층을 형성하는 단계를 포함하는, 복층 구조의 페로브스카이트를 제조하는 방법을 개시한다.
주요 특징
에너지/자원/원자력, 신에너지기술
협력 희망 분야
한국과학기술연구원
기술 정보
상태
라이선스 가능
TRL (기술성숙도)
Level 5
판매금액
가격협의
키워드
복층 페로브스카이트 구조
할라이드 반응 공정
광전소자 소재
발명자
김인수, 김영환, 이관일, 김춘근, 남병현, 김혜준
출원일
2019.09.19