채널 벽면에 그래프팅된 전해질고분자 브러쉬층의 하전 특성 평가방법 및 평가시스템
한국과학기술연구원
10-2019-0156582
TRL 5
등록일 2026.08.11
미세유체칩 기반의 분석 및 분리, 박막 코팅 제어, 표면처리 기술
특허 도면
특허 등록번호: 10-2298422
특허 문서
기술 개요
본 발명은 채널 벽면에 전해질고분자가 그래프팅되어 형성된 브러쉬층의 하전 특성을 평가할 수 있는 방법 및 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 전해질고분자가 그래프팅된 브러쉬층의 하전 특성인 정전 퍼텐셜 분포, 표면 퍼텐셜 및 총 전하밀도 등을 측정함에 있어서, 제타 퍼텐셜 측정기와 원자힘 현미경(atomic force microscope, AFM)과 같은 복잡하고 비싼 가격의 장비가 필요한 종전의 방식에 비해 보다 간편하고 정확하게 예측, 조절 및 평가할 수 있다.
주요 특징
화학/화공
협력 희망 분야
매매
기술 정보
상태
라이선스 가능
TRL (기술성숙도)
Level 5
판매금액
500 만원
키워드
전해질 고분자 브러쉬
표면 전하 평가
전기 이중층 분석
발명자
전명석, 민병권
출원일
2019.11.29